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Mascarilla facial reparadora. Contiene extracto de centella asiática y niacinamida, combinación ideal para pieles con problemas por acné, irritadas o sensibles, ya que mejora la cicatrización, atenúa manchas, calma y desinflama; además de aportar hidratación a la piel gracias a sus 3 tipos de ácido hialurónico.
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Mascarilla facial reparadora. Contiene extracto de centella asiática y niacinamida, combinación ideal para pieles con problemas por acné, irritadas o sensibles, ya que mejora la cicatrización, atenúa manchas, calma y desinflama; además de aportar hidratación a la piel gracias a sus 3 tipos de ácido hialurónico.
Aplicar en el rostro limpio posterior al uso de tónico u otro productos de tratamiento como serum, dejar actuar por 20 minutos y retirar la mascarilla (no se enjuaga).
Water, Centella Asiatica Extract (apretando poros, calmante, Retrasa la actividad antioxidante), Glycereth-26, Butylen Glycol (Hidratación Fuerte), Niacinamide(Mejorar Mancha/Hidratacion), 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Arginine, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Hydroxyethylcelluose, Carrageenan, Polyglyceryl-4 Caprate, Polyglyceryl-6 Caprylate, Adenosine(Elasticidad), Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, Helianthus Annuus(Sunflower) Seed Oil, Panthenol(Hidratación, Calmante), Artemisa Princeps Leaf Extract, Propanediol, Portulaca Oleracea Extract, Panax Ginseng Root Extract(Retrasa la actividad antioxidante, Hidratacion), Camellia Sinensis Leaf Extract(apretando poros, calmante, Retrasa la actividad antioxidante), Anthemis Nobilis Flower Oil, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid (Hidratación Fuerte), Hyaluronic Acid (Hidratación Fuerte)
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